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            高光譜測試系統

            簡要描述:高光譜測試系統基于offner型的凸面光柵分光系統,其原理新穎,相比較其他分光系統具有光學相對孔徑大、色散線性度好、結構 緊湊和圖像成像質量佳等優點。

            • 產品型號:
            • 廠商性質:經銷商
            • 更新時間:2023-10-08
            • 訪  問  量:632

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            高光譜測試系統

             

            • 基于offner型的凸面光柵分光系統,其原理新穎,相比較其他分光系統具有光學相對孔徑大、色散線性度好、結構 緊湊和圖像成像質量佳等優點。該種類型組成的成像光譜儀在效率(能量利用率)和光學畸變相比較其他類型的成 像光譜儀中性能表現.佳。系統中由于采用專門研制的閃耀光柵,平均效率高達60%以上,替代了美國headwall 高效率成像光譜儀系列產品(注:該類型產品被美國列為為禁運)。匹配的相機采用SCMOS相機,平均量子效率 高達60%,靈敏度和性能達到了EMCCD 相機的水平。

            高光譜測試系統核心優勢:

            • 全反射光學設計; F/2.2 大通光孔徑
            • 高效率凸面光柵;消除梯形失真和曲線彎曲
            • 寬波譜范圍;杰出的光譜/空間分辨率
            • 理想的弱照明、弱信號環境下的應用
            • 結構緊湊、寬視場角
            • 非常高的信噪比;低散射或者雜散光水平
            • 穩定和耐用的堅固設計;高性價比,多種標準鏡頭選配

            名稱

            VNIR成像光譜儀

            SWIR成像光譜儀

            SWIR成像光譜儀

            光譜范圍(nm)

            400-1000

            900-1700

            1000-2300

            分光類型

            凸面光柵分光

            光譜分辨率(狹縫25um)

            3-4 nm

            優于10 nm

            10nm

            光譜分辨率(狹縫12um)

            1.5-2 nm

            優于5nm

            /

            光學孔徑F/#

            F/2.2

            狹縫高度

            12mm

            像素色散值

            0.6nm

            3.6nm/pixel

            7nm

            光譜波長精度(nm)

            優于1

            優于2

            優于4

            光學系統效率(平均)

            60%

            光譜通道

            256-1152(可編程)

            220

            空間通道

            2048

            320

            SCMOS相機

            像元:6.5um*6.5um像元 數:2048*1152 QE>70%@595nm

            像元:15um*15um 像元數:640*512

            像元:30um*30um 像元數:320*256

            數據量化位數

            16

            12

            前置鏡頭

            焦距17mm

            焦距4.8-70mm,可選配

            儀器重量(kg)

            4.2

            4.5

            尺寸(mm)

            215*175*110

            260*175*110

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